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场发射扫描电镜∑IGMA 300

2015-7-13 13:41| 发布者: fansiyuan| 查看: 3361| 评论: 0

摘要: 蔡司公司最新推出Sigma300场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计,将低电压成像技术发挥到了极致,采用适宜的探针电流范围,降低50%的信噪比从而提升了85%的衬度信息。Sigma300将高级的分析性能与场发射 ...

详细描述:

 

品牌:卡尔·蔡司

 型号:∑IGMA 300

 制造商:德国卡尔蔡司公司

 经销商:欧波同有限公司

免费咨询电话:800-8900-558

 

聚焦卡尔·蔡司
   
世界顶级光学品牌,可见光及电子光学的领导企业----德国蔡司公司始创于1846年。其电子光学前身为LEO(里奥),更早叫Cambridge(剑桥),积扫描电镜领域40多年及透射电镜领域60年的经验,ZEISS电子束技术在世界上创造了数个第一:

    第一台静电式透射电镜 (1949
    
第一台商业化扫描电镜 (1965
    
第一台数字化扫描电镜(1985
    
第一台场发射扫描电镜(1990
    
第一台带有成像滤波器的透射电镜 (1992
    
第一台具有Koehler照明的 200kV 场发射透射电镜(2003
    
第一台具有镜筒内校正Omega能量滤波器的场发射透射电镜(2003)

CARL ZEISS以其前瞻性至臻完美的设计融合欧洲至上制造工艺造就了该品牌在光电子领域无可撼动的王者地位。自成立至今,一直延续不断创新的传统,公司拥有电镜制造最核心 最先进的专有技术,随着离子束技术和基于电子束的分析技术的加入、是全球唯一为您提供钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜、双束显微镜(FIB and SEM)、透射电子显微镜等全系列解决方案的电镜制造企业。其产品的高性能、高质量、高可靠性和稳定性已得到全世界广大用户的信赖与认可。作为全球电镜标准缔造者的CARL ZEISS将一路领跑高端电镜市场为您开创探求纳米科技的崭新纪元。

核心技术
     蔡司公司最新推出Sigma300场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计,将低电压成像技术发挥到了极致,采用适宜的探针电流范围,降低50%的信噪比从而提升了85%的衬度信息。Sigma300将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合,多种探测器可选:用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma自动的四步工作流程大大节省了设置与分析操作的时间,提高效率。

【技术参数】

分辨率: 1.2nm @15 kV   2.2nm @1kV

放大倍数:10-1,000,000×

加速电压调整范围:0.02-30 kV(无需减速模式实现)

探针电流: 4pA-20nA 40nA&100nA可选)

低真空范围: 2-133Pa Sigma 300VP可用

样品室: 365 mmφ275mmh

样品台:5轴优中心全自动   

X=125mm

Y=125 mm

Z=50 mm

T=-10º-90º

R=360º 连续

系统控制基于Windows 7SmartSEM操作系统可选鼠标、键盘、控制面板控制

 【产品应用】       
    
扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等 检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析,各种材料的形貌组织观察,材料断口分 析和失效分析,材料实时微区成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面扫描和线扫描分布测量,晶体、晶粒的相鉴定,晶粒尺寸、形状分析,晶体、晶 粒取向测量。

 


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